Die zahlreichen Verbesserungen im neuen SPECTRO ARCOS resultieren zum einen aus einer Vielzahl von Kundenanregungen und zum anderen aus der kontinuierlichen Weiterentwicklung bewährter Technologien. Das SPECTRO ARCOS ist bekannt für außergewöhnliche optische Leistung, einen großen Wellenlängenbereich, hohe Nachweisempfindlichkeit und Auflösung, eine hohe Leistungsfähigkeit für zuverlässige analytische Ergebnisse und eine hohe Produktivität. Dank der neuesten Weiterentwicklungen bietet das SPECTRO ARCOS jetzt eine noch größere Flexibilität, eine komfortablere Bedienung und zusätzliche Kosteneinsparungen. Zu den herausragenden Merkmalen zählen:
- Neue DSOI-Plasmabetrachtungsoption: Die neue Dual Side-On Interface (DSOI) Option mit zwei optischen Schnittstellen erhöht die Nachweisempfindlichkeit und beseitigt Probleme mit Verunreinigungen und Matrixkompatibilität, die bei Dual-View-Modellen mit vertikaler Fackel auftreten können. Wenn DSOI nicht benötigt wird, bietet die Standardversion des SPECTRO ARCOS mit Side-On-Plasma (SOP) ein spezielles radiales Single Side-On-Interface für hohe Stabilität und Präzision.
- MultiView-Plasmabetrachtungsoption: Die axiale Plasmabetrachtung bietet eine hohe Nachweisempfindlichkeit und eignet sich hervorragend für die Spurenanalyse, während die radiale Plasmabetrachtung durch eine hohe Präzision punktet und ideal für hohe Matrixlast und organische Lösungen ist. Mit MultiView lässt sich die direkte Plasmabetrachtung des SPECTRO ARCOS von radial nach axial umschalten – und das in nur 90 Sekunden. Durch die DSOI-Option wird MultiView jetzt noch flexibler und bietet zusätzliche Empfindlichkeit bei radialer Betrachtung.
- Fortschrittliche CMOS-Detektoren: Auf CMOS-Technologie basierende, Zeilendetektoren übertreffen die Leistung herkömmlicher CCD-Detektoren (Charge-Coupled Device). Die CMOS-Technologie eliminiert „Blooming“ und ermöglicht so die Erfassung kleiner Messsignale, selbst in direkter Nähe intensiver Linien. Sie bietet einen großen Dynamikbereich und benötigt keine Chipkühlung. Zudem sind die Einzelkosten für CMOS-Detektoren deutlich niedriger als bei 2D-Modellen.
- Außergewöhnliches ORCA: SPECTROs innovative ORCA (Optimized Rowland Circle Alignment) Polychromatortechnologie vermeidet die Nachteile Echelle-basierter Optiken. Das SPECTRO ARCOS liefert eine hohe Auflösung über einen weiten Spektralbereich – 130 bis 770 Nanometer (nm) – mit der branchenweit besten Transparenz unterhalb von 180 nm. Das Resultat: Eine einfachere Methodenentwicklung selbst bei schwereren Metallmatrices und eine höhere Richtigkeit.
- Hochgeschwindigkeits-Auslesesystem: Dank vollständig simultaner Messung, schneller Auslese und des leistungsstarken Generators ist das SPECTRO ARCOS ist in der Lage, einfachere Matrices in nur 30 Sekunden zu analysieren. Während es für viele Spektrometer bereits schwierig ist, Messzeiten von einer Minute zu realisieren, lassen sich mit dem SPECTRO ARCOS mehr Proben in weniger Zeit analysieren – bei solider Sicherheit und vollständiger Rückverfolgbarkeit der Ergebnisse.
Darüber hinaus liefert ein extrem agiler 2.000 Watt LDMOS (Laterally Diffused Metal Oxide Semiconductor) Generator freilaufenden Typs die branchenweit beste Leistung. Und durch die UV-PLUS-Gasreinigungstechnologie ist eine Spülung des optischen Systems überflüssig – es wird keine Stabilisierungszeit benötigt, Verunreinigungen werden verhindert und beim Gasverbrauch können bis zu 3.000 € jährlich eingespart werden. Als einziges vollständig luftgekühltes ICP-OES-Analysesystem erspart das SPECTRO ARCOS die Kosten und den Ärger einer externen Wasserkühlung. Die intuitive Software bietet hohe Benutzerfreundlichkeit, Geschwindigkeit und Rückverfolgbarkeit. Außerdem ermöglichen verschiedenste Verbesserungen eine vereinfachte Bedienung und einen direkten wartungsfreundlichen Zugang zu Probeneintrag und Gerätekomponenten.
Das SPECTRO ARCOS ist jetzt in sechs Varianten erhältlich, je nach Wahl der Plasmabetrachtungstechnologie und des Wellenlängenbereichs. So bietet die neue DSOI-Plasmabetrachtung eine bis zu Faktor 2 höhere Empfindlichkeit als die herkömmliche radiale Betrachtung – ohne die Komplexität und Kosten der vertikalen Dual-View-Modelle. Mithilfe der MultiView-Option lässt sich ganz einfach zwischen direkter axialer, direkter radialer und Dual-Side-On-Plasmabetrachtung wechseln. Das schlanke Gerätegehäuse passt auf jeden Standard-Labortisch und bietet Platz für eine Vielzahl an Probeneintragssystemen. Zu den verfügbaren Optionen zählt auch ein intelligentes Ventilsystem („SPECTRO Intelligent Valve System Upgrade Kit“) sowie eine portable Videokamera zur Fernüberwachung der Analyse.
Alle SPECTROmeter werden durch das AMECARE Service-Programm unterstützt, das mit maßgeschneiderten Services sicherstellt, dass das Gerät durchgehend eine exzellente Leistung bietet und die längst mögliche Lebensdauer aufweist. Hierzu gehört auf Wunsch auch die sichere, unidirektionale SPECTRO PROTEKT-Fernüberwachung, die laufende Diagnosen und proaktive Warnungen bietet.
Das neue Flaggschiff SPECTRO ARCOS führt SPECTROs fortschrittliche ICP-OES-Produktfamilie an – und ist ab sofort erhältlich. Weitere Informationen finden Sie auf www.spectro.de/arcos oder kontaktieren Sie uns per E-Mail: spectro.info@ametek.com.
SPECTRO ist einer der weltweit führenden Anbieter von Analysegeräten auf dem Gebiet der Optischen Emissions- und Röntgenfluoreszenz-Spektrometrie. Als Unternehmensbereich der AMETEK Materials Analysis Division produziert SPECTRO zukunftsweisende Geräte, entwickelt für die verschiedenartigsten Aufgabenstellungen die besten Lösungen und stellt eine hervorragende Kundenbetreuung sicher. SPECTRO-Produkte sind bekannt für ihre einzigartige technische Leistungsfähigkeit mit messbarem Nutzen für den Kunden. Von der Gründung 1979 bis heute wurden weltweit bereits mehr als 50.000 Analysegeräte an Kunden geliefert.
AMETEK, Inc. ist ein führender, weltweit aktiver Hersteller von elektronischen und elektromechanischen Produkten mit einem Jahresumsatz von rund 5,5 Mrd. US-$.
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